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光學共聚焦顯微鏡

簡要描述:CHOTEST中圖儀器VT6000光學共聚焦顯微鏡以共聚焦技術為原理、結合精密Z向掃描模塊、3D 建模算法等對器件表面進行非接觸式掃描并建立表面3D圖像,通過系統(tǒng)軟件對器件表面3D圖像進行數(shù)據(jù)處理與分析,并獲取反映器件表面質(zhì)量的2D、3D參數(shù),從而實現(xiàn)器件表面形貌3D測量??蓽y各類包括從光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物體表面,從納米到微米級別工件的粗糙度、平整度、微觀幾何輪廓、曲率等。

  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2024-08-11
  • 訪  問  量:615

詳細介紹

品牌中圖儀器產(chǎn)地國產(chǎn)
加工定制

在相同物鏡放大的條件下,共焦顯微鏡所展示的圖像形態(tài)細節(jié)更清晰更微細,橫向分辨率更高。如同為微納檢測的利器,共聚焦擅長微納級粗糙輪廓的檢測,能夠提供色彩斑斕的真彩圖像便于觀察。


CHOTEST中圖儀器VT6000光學共聚焦顯微鏡以共聚焦技術為原理、結合精密Z向掃描模塊、3D 建模算法等對器件表面進行非接觸式掃描并建立表面3D圖像,通過系統(tǒng)軟件對器件表面3D圖像進行數(shù)據(jù)處理與分析,并獲取反映器件表面質(zhì)量的2D、3D參數(shù),從而實現(xiàn)器件表面形貌3D測量??蓽y各類包括從光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物體表面,從納米到微米級別工件的粗糙度、平整度、微觀幾何輪廓、曲率等。

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產(chǎn)品功能

1)設備具備表征微觀形貌的輪廓尺寸及粗糙度測量功能;

2)設備具備自動拼接功能,能夠快速實現(xiàn)大區(qū)域的拼接縫合測量;

3)設備具備一體化操作的測量與分析軟件,預先設置好配置參數(shù)再進行測量,軟件自動統(tǒng)計測量數(shù)據(jù)并提供數(shù)據(jù)報表導出功能,即可快速實現(xiàn)批量測量功能;

4)設備具備調(diào)整位置、糾正、濾波、提取四大模塊的數(shù)據(jù)處理功能;

5)設備具備粗糙度分析、幾何輪廓分析、結構分析、頻率分析、功能分析等五大分析功能;

6)設備具備一鍵分析和多文件分析等輔助分析功能,可實現(xiàn)批量數(shù)據(jù)文件的快速分析功能;

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應用行業(yè)

VT6000光學共聚焦顯微鏡可廣泛應用于半導體制造及封裝工藝檢測、3C電子玻璃屏及其精密配件、光學加工、微納材料制造、汽車零部件、MEMS器件等超精密加工行業(yè)及航空航天、科研院所等。


應用領域

對各種產(chǎn)品、部件和材料表面的面形輪廓、表面缺陷、磨損情況、腐蝕情況、平面度、粗糙度、波紋度、孔隙間隙、臺階高度、彎曲變形情況、加工情況等表面形貌特征進行測量和分析。

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性能特色

1、高精度、高重復性

1)以轉(zhuǎn)盤共聚焦光學系統(tǒng)為基礎,結合高穩(wěn)定性結構設計和3D重建算法,共同組成測量系統(tǒng),保證儀器的高測量精度;

2)隔震設計能夠消減底面振動噪聲,儀器在嘈雜的環(huán)境中穩(wěn)定可靠,具有良好的測量重復性。

2、一體化操作的測量分析軟件

1)測量與分析同界面操作,無須切換,測量數(shù)據(jù)自動統(tǒng)計,實現(xiàn)了快速批量測量的功能;

2)可視化窗口,便于用戶實時觀察掃描過程;

3)結合自定義分析模板的自動化測量功能,可自動完成多區(qū)域的測量與分析過程;

4)幾何分析、粗糙度分析、結構分析、頻率分析、功能分析五大功能模塊齊全;

5)一鍵分析、多文件分析,自由組合分析項保存為分析模板,批量樣品一鍵分析,并提供數(shù)據(jù)分析與統(tǒng)計圖表功能;

6)可測依據(jù)ISO/ASME/EUR/GBT等標準的多達300余種2D、3D參數(shù)。

3、精密操縱手柄

集成X、Y、Z三個方向位移調(diào)整功能的操縱手柄,可快速完成載物臺平移、Z向聚焦等測量前工作。

4、雙重防撞保護措施

除軟件ZSTOP設置Z向位移下限位進行防撞保護外,另在Z軸上設計有機械電子傳感器,當鏡頭觸碰到樣品表面時,儀器自動進入緊急停止狀態(tài),保護儀器,降低人為操作風險。

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技術指標

型號VT6100


行程范圍

X100mm
Y100mm
Z100mm
外形尺寸
520*380*600mm
儀器重量50kg
測量原理共聚焦光學系統(tǒng)
顯微物鏡10×;20×;50×;100×
視場范圍120×120 μm~1.2×1.2 mm


高度測量

重復性(1σ)12nm
精度± (0.2+L/100) μm
顯示分辨率0.5nm


寬度測量

性(1σ)40nm
精度± 2%
顯示分辨率1nm
XY位移平臺負載10kg
控制方式電動
Z0軸掃描范圍10mm
物鏡塔臺5孔電動
光源白光LED


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